Chemical Process Design and Simulation: Aspen Plus and Aspen Hysys Applications

"Chemical Process Design and Simulation: Aspen Plus and Aspen Hysys Applications" er en omfattende og eksempelorientert tekst som tar for seg studie av kjemisk prosessdesign og simulering. Boken fungerer som en lett tilgjengelig veiledning som formidler essensielle prinsipper innenfor kjemisk ingeniørdesign, og gir illustrative eksempler på hvordan disse prinsippene anvendes ved hjelp av simuleringsprogramvare. Som en praktisk ressurs, fokuserer teksten på både Aspen Plus og Aspen Hysys simuleringsprogrammer. Forfatteren beskriver grunnleggende metodologier for datamaskinstøttet design og gir en detaljert fremstilling av de grunnleggende trinnene i prosessimulering, spesielt i Aspen Plus og Aspen Hysys. Boken tar for seg design og simulering av individuelle, enkle enhetsoperasjoner, som inkludere matematiske modeller for hver enhetsoperasjon, for eksempel reaktorer, separeringsanlegg og varmevekslere. Den utforsker også designet for nye anlegg og simuleringen av eksisterende anlegg hvor konvensjonelle kjemikalier og materialblandinger med målbare sammensetninger benyttes. I tillegg, for å støtte i ...