Development and Applications of Negative Ion Sources

Boken 'Development and Applications of Negative Ion Sources' gir en grundig innføring i utviklingen av kilder for negative ioner, samt deres anvendelser innen både vitenskap og industri. Den tar for seg de fysiske prinsippene og implementeringen av de viktigste metodene for produksjon og kontroll av negative ioner, inkludert prosesser som ladningsutveksling, termionisk emisjon, plasmakilde, sekundær emisjon (spruting) og overflate-plasma kilder. I tillegg blir utviklingen av disse kildene nøye belyst, slik at leseren får et klart bilde av historien bak denne teknologien. Boken dykker også inn i transporten av negative ionebrunner og de ustabilitetene som kan oppstå i samspill med plasma. I denne andre utgaven er innholdet betydelig utvidet og oppdatert for å reflektere de mange fremskrittene som har skjedd siden første utgivelse. En av de mest bemerkelsesverdige oppdateringene omhandler utviklingen og undersøkelsen av cesierede overflater med arbeid funksjon på ca. 1,2-1,3 eV under forhold nært knyttet til utladninger i overflate-plasma kilder. Boken inkluderer også et nytt kapittel som tar for seg utviklingen av konverteringsmål for høyenergiske nøytrale stråleinjektorer, og dekker både gassmål og plasma mål.